低溫等離子體廢氣處理設(shè)備系統(tǒng)運(yùn)行情況
未知, 2020-02-11 10:25, 次瀏覽
低溫等離子體廢氣處理設(shè)備系統(tǒng)運(yùn)行情況
低溫等離子體廢氣處理設(shè)備產(chǎn)生的***量惡臭污染物（硫化氫、氨等）對環(huán)境造成輕微影響，威脅人類保健。這些污染物通常來自***定的廢物或污水處理系統(tǒng)排放源。傳統(tǒng)的氣體凈化技術(shù)投資小、周期短、運(yùn)行成本低，處理效果難以滿足日益嚴(yán)苛的排放法規(guī)要求，人們正在尋找全新的方法和途徑。近年來，離子脫臭技術(shù)因其能耗低、氧化性能弱而得到了普遍的研究。為了解決這些問題，研究人員采用多種技術(shù)手段對光催化劑進(jìn)行了改性，提高了離子除臭性能。另一方面，通過與各種外場（超聲波、電化學(xué)、等離子體等）的耦合，形成了一種新型的高效離子反應(yīng)技術(shù)，并取得了明顯的效果。***別是等離子體在環(huán)境污染物處理之中的應(yīng)用引起了人們的巨***關(guān)注。它被認(rèn)為是環(huán)境污染物處理***域應(yīng)用***普遍、***有前途的高新技術(shù)之一。目前，等離子體技術(shù)已順利應(yīng)用于惡臭氣體的處理。
低溫等離子體廢氣處理設(shè)備的主要成分是有機(jī)污染物。離子過程具有較弱的氧化性，能***分解空氣之中的有機(jī)物，起到除臭的作用。該工藝速度慢，投資成本高，操作直觀，除臭效果顯著，除臭效率可達(dá)80%超過。
低溫等離子體廢氣處理設(shè)備廢氣處理工藝簡介
低溫等離子體廢氣處理設(shè)備系統(tǒng)綜合主要包括主反應(yīng)器和光催化反應(yīng)引入裝置。通過收集系統(tǒng)收集廢氣，然后進(jìn)入離子催化氧化廢氣處理和合成系統(tǒng)。離子反應(yīng)引入裝置向主反應(yīng)器產(chǎn)生離子。外部的價(jià)電子被激發(fā)穿過禁帶，跳入導(dǎo)帶。將生成的電子空穴引入主反應(yīng)器之中，擴(kuò)散到反應(yīng)器之中過濾板的二氧化鈦表面，通過界面并吸附在過濾板之上，物質(zhì)經(jīng)歷氧化-還原反應(yīng)。其空穴能為7.5eV，氧化電位為+3.0V，具有較弱的氧化能力。它能氧化有機(jī)化合物，達(dá)到全然礦化的程度，并產(chǎn)生二氧化碳、水和無機(jī)物。處理之后的廢氣繼續(xù)進(jìn)入水洗塔，與水反應(yīng)生成羥基烯烴。電子是還原性的，可以與氧分子反應(yīng)生成過氧自由基。這些權(quán)利基具有很弱的氧化能力，還可以氧化有機(jī)物。從而使廢氣得到全然凈化，達(dá)標(biāo)排放
